Zukunftssicherung EUV-Lithografie-Team erhält Deutschen Zukunftspreis 2020!

Redakteur: Peter Königsreuther

Experten von Trumpf, Zeiss und vom Fraunhofer-IOF freuen sich über die Auszeichung, die sie gestern entgegen nehmen durften...

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EUV-Lithografie-Team erhält Deutschen Zukunftspreises 2020: Dr. rer. nat. Sergiy Yulin vom Fraunhofer-IOF, Dr. rer. nat. Peter Kürz von Zeiss und Dr. rer. nat. Michael Kösters von Trumpf.
EUV-Lithografie-Team erhält Deutschen Zukunftspreises 2020: Dr. rer. nat. Sergiy Yulin vom Fraunhofer-IOF, Dr. rer. nat. Peter Kürz von Zeiss und Dr. rer. nat. Michael Kösters von Trumpf.
(Bild: A. Pudenz)

Bundespräsident Frank-Walter Steinmeier gab gestern in einer feierlichen Zeremonie in Berlin die Gewinner des Deutschen Zukunftspreis 2020 bekannt. Für ihr Projekt „EUV-Lithographie – Neues Licht für das digitale Zeitalter“ zeichnete der Bundespräsident das Experten-Team um Dr. Peter Kürz, Zeiss aus der Sparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT), Dr. Michael Kösters von Trumpf und Dr. Sergiy Yulin vom Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF in Jena, mit seinem Preis für Technik und Innovation aus. Die EUV-Lithografie (extreme ultraviolette Strahlung bei etwa 13,5 nm Wellenlänge) ist zum Beispiel unentbehrlich für Zukunft der Chipfertigung.

Nichts geht mehr ohne EUV-Lithografie

Das Gewinner-Team hat einen wesentlichen Beitrag zur Entwicklung und industriellen Serienreife der EUV-Technologie geleistet. Das Resultat ist eine durch über 2000 Patente abgesicherte Zukunftstechnologie, die Basis für die Digitalisierung unseres Alltags ist und Anwendungen wie Autonomes Fahren, 5G, Künstliche Intelligenz und weitere zukünftige Innovationen ermöglicht. Dank EUV wurden bei Zeiss und Trumpf bis heute mehr als 3300 Hochtechnologiearbeitsplätzen geschaffen und 2019 ein Jahresumsatz von mehr als 1 Mrd. Euro erwirtschaftet – Tendenz steigend.

Zig Milliarden Transistoren auf einer Fingerkuppenfläche

Weltweit einziger Hersteller für EUV-Lithographie-Maschinen ist das niederländische Unternehmen ASML, die als Integrator die Architektur des Gesamtsystems und insbesondere die EUV-Quelle entworfen hat. Schlüsselkomponenten dieser Maschinen sind der Hochleistungslaser von Trumpf, der als EUV-Lichtquelle dient und das optische System von Zeiss. Mit dieser, wie es heißt, konkurrenzlosen Schlüsseltechnologie lassen sich in diesem und dem nächsten Jahrzehnt weitaus leistungsfähigere, energieeffizientere und kostengünstigere Mikrochips herstellen als jemals zuvor. Denn ohne weiterhin stark steigende Rechenleistung keine erfolgreiche Digitalisierung. Die Experten merken an, dass heute bereits ein Smartphone die millionenfache Rechenpower des Computers hat, der 1969 die erste Mondlandung begleitete. Ermöglicht wird das durch einen kaum fingerkuppengroßen Mikrochip, auf dem sich über 15 Mrd. Transistoren befinden.

So bahnen Forschung und Industrie den Weg in die Zukunft

Das Fertigungsverfahren für die neuesten Chip-Generationen fußt auf der Nutzung von EUV-Licht, die bisherige Grenzen des technisch Machbaren überwindet. Von der Lichtquelle über das optische System im Vakuum bis zur Oberflächenbeschichtung der dabei eingesetzten Spiegel musste praktisch die gesamte Belichtungstechnologie von Grund auf neu entwickelt werden.

Trumpf-Vize-Chef und Chief Technology Officer Peter Leibinger: „Wir freuen uns sehr, dass Dr. Michael Kösters, Dr. Peter Kürz und Dr. Sergiy Yulin von Trumpf, Zeiss und dem Fraunhofer-IOF den Deutschen Zukunftspreis gewonnen haben. Sie stehen mit ihrem Erfindergeist, Technikverständnis, Durchhaltevermögen und gutem Miteinander geradezu beispielhaft dafür, wie sich durch starke Partnerschaften Zukunftstechnologien zur Industriereife entwickeln lassen.

Die Auszeichnung führt uns einmal mehr vor Augen, dass eine starke Industrie und eine hervorragende Forschungslandschaft eine entscheidende Rolle für die Herausforderungen dieses Jahrhunderts spielen. Das Mammut-Projekt EUV-Lithographie schafft auch im Corona-Jahr Arbeitsplätze und sorgt darüber hinaus für eine Vorreiterrolle Europas bei der Herstellung modernster Mikrochips.“

Optik-, Laser- und Beschichtungs-Know-how im Einklang

Trumpf liefert mit dem weltweit stärksten gepulsten Industrielaser eine Schlüsselkomponente für die Belichtung modernster Mikrochips, die in jedem modernen Smartphone zum Einsatz kommen. Es gibt keine wirtschaftliche Alternative zu diesem Laser, um das für die EUV-Lithographie benötigte Licht zu erzeugen.

Güte und Form des Beleuchtungssystems sowie das Auflösungsvermögen der Projektionsoptik von Zeiss bestimmen darüber, wie klein Strukturen auf Mikrochips sein können. Wesentliche Innovationen stecken daher in den Spiegeln, die in das Optik-System eingesetzt werden. Da selbst kleinste Unregelmäßigkeiten zu Abbildungsfehlern führen, wurde für die EUV-Lithographie der weltweit „präziseste“ Spiegel entwickelt. Fraunhofer fungierte als wichtiger Forschungspartner bei der anspruchsvollen Beschichtungstechnik für die großflächigen Spiegel.

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